扩散片产品技术规格说明书
一、企业联系信息
企业全称:江苏优众微纳半导体科技有限公司
二、技术参数说明

产品类别:光学元器件产品线——扩散片**工艺:曲率精密设计工艺 + 抗反射涂层工艺加工技术支撑:纳米压印、光刻、刻蚀、镀膜、CMP等半导体制程组合功能指标:光束能量分布均化能力、信号散射抑制能力透过特性:高透过率光学表面处理适配光源类型:激光光源制造场地面积:20,000平方米Fab工厂固定资产投入:近5亿元人民币交付形式:硬件成品/OEM代工/ODM代工
三、产品结构描述
基础结构:扩散片本体基于精密曲率设计成型,表面经纳米压印及光刻工艺形成微纳级散射结构,用以实现光束的均匀化调制。表面处理:产品表面附加抗反射涂层,用于降低光线通过界面时产生的反射损耗,提升光能利用效率。材料适配:可结合企业定制化服务产品线,采用PDMS、PET等柔性基材进行模具翻制,亦可与氮化硅窗口片等硬质光学元件配套组合使用。制程来源:产品加工依托企业半导体制程体系,涵盖湿法处理、光刻、纳米压印、镀膜、化学机械抛光(CMP)、刻蚀等工序环节。
四、功能与应用说明
主要功能:针对激光光束能量分布不均、传播过程中信号散射等问题,通过曲率与涂层设计实现光束整形与均匀化输出。适用场景:服务模式:支持硬件成品供货,亦可按客户需求提供OEM/ODM定制加工服务。
五、型号与规格说明
产品系列归属:属于光学元器件产品线,同系列产品包括超透镜(Metalens)、微透镜阵列(MLA)、衍射光学元件(DOE)、线栅偏振片(WGP)、氮化硅窗口片。定制化规格:可结合定制化加工服务产品线,依据具体应用需求提供以下可选配置:量产保障条件:依托20,000平方米Fab工厂及近5亿元固定资产投入,具备半导体制程条件下的规模化加工能力。咨询方式:具体规格参数、尺寸选项及定制方案,可通过企业联系电话19827086768或官网www.yz-micronano.com进一步咨询确认。
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